核心提示：采用磁控溅射法生产离线低辐射（Low-E）镀膜玻璃，产品质量依赖于膜层结构和工艺参数的调整。单银Low-E膜系结构简单，膜层材料少
采用磁控溅射法生产离线低辐射（Low-E）镀膜玻璃，产品质量依赖于膜层结构和工艺参数的调整。单银Low-E膜系结构简单，膜层材料少，工艺人员凭借长期总结的经验，不需要依赖软件模拟就可以调试出光学性能符合要求的产品。随着人们节能意识和节能要求的提升，双银甚至三银Low-E开始逐步取代单银成为新一代中、高档建筑幕墙使用的节能玻璃产品。但双银和三银产品的膜系复杂，并且还伴随有膜层不均匀、大角度色差等问题，调试过程不能单靠经验，需要借助于软件模拟对膜层结构和工艺参数调试提供指导，而软件模拟的前提是建立准确的材料光学常数数据库。随着材料科学和真空溅射等技术的发展，不仅对于双银和三银Low-E产品，更对于其他一些高附加值的特殊光学薄膜而言，准确提取膜层材料的光学常数都将起着关键性的作用。
2 提取光学常数的方法原理 光学常数的测量和提取方法有很多种[1]，如光切法、波导法、光谱法、椭圆偏振法等。其中光谱拟合法能同时得出薄膜厚度和光学常数，再加上该方法对膜层的非破坏性，因此成为薄膜光学常数提取的主要方法。本文即是采用这种方法对低辐射玻璃膜层所用介质材料SixNy和ZnAlOx的光学常数进行提取。
